山東聯(lián)盛電子設備有限公司成立于2014年 5月， 生產基地位于山東省高唐 高新技術開發(fā)區(qū)，研發(fā)基地位于江蘇省無錫市錫山科創(chuàng)園，公司致力于半導體高端濕制程設備研發(fā)、生產與銷售。

       公司目前已申請國家專利30多項，其中發(fā)明專利10項，是國家高新技術企業(yè) ，省級專精特新企業(yè)，公司于2016年申請并通過1S09001質量體系認證，半導體SEMI-S2專業(yè)認證。并于2020年、2022年分別和山東大學微電子學院，青島大學電子信息工程學院建立產學研合作，同時總經理馬玉水被青島大學聘為創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)導師。

        我們產品服務的領域包括硅材料、化合物半導體材料等，主要設備有:全自動RCA清洗機、全自動鍍鎳鍍金清洗機、全自動最終清洗機、全自動腐蝕減薄清洗機、全自動去邊清洗機、全自動溝槽蝕刻機、全自動二氧化硅蝕刻、爐管清洗機、CVD前清洗機、CDS(SDS)系統(tǒng)、BClean、0xideRemove、Nitride Remove、PR Strip,lift off、ParticleRemove, Solvent Clean、 MetalEtch， M2 Clean。