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公司動態(tài)

會議邀請丨聯(lián)盛半導體誠摯邀請您相聚2025年SEMICON CHINA

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公司簡介

   聯(lián)盛半導體科技(無錫)有限公司成立于2023年5月,是山東聯(lián)盛電子設備有限公司的全資子公司,工廠地址位于江蘇省無錫市錫山科創(chuàng)園,公司致力于半導體高端濕制程設備研發(fā)、生產與銷售。

   山東聯(lián)盛電子設備有限公司目前已申請國家專利30多項,其中發(fā)明專利9項,并獲得國家高新技術企業(yè),省級專精特新企業(yè)榮譽稱號,公司于2016年申請并通過ISO9001質量體系認證,半導體專業(yè)認證。并于2020年、2022年分別和山東大學微電子學院,青島大學電子信息工程學院建立產學研合作,同時總經理馬玉水被青島大學聘為創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)導師。

   我們產品服務的領域包括硅材料、化合物半導體材料、陶瓷、玻璃等,主要設備有:全自動RCA清洗機、全自動鍍鎳鍍金清洗機、全自動最終清洗機、全自動腐蝕減薄清洗機、全自動去邊清洗機、全自動溝槽蝕刻機、全自動二氧化硅蝕刻機、爐管清洗機、CVD前清洗機、CDS(SDS)系統(tǒng)、BClean、Oxide Remove、Nitride Remove、PR Strip、Lift Off、Particle Remove、Solvent Clean、Metal Etch、M2 Clean.


產品展示

全自動腐蝕機

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1、晶圓浸泡式腐蝕清洗,特制轉籠晶圓自動旋轉和提拉。
2、工藝結果具備高度的均勻一致性,確保腐蝕效果。
3、氮氣鼓泡功能,運行中氮氣管路可在酸槽內平行均勻移動,鼓泡速率可調節(jié)。
4、化學藥液多級精細過濾,循環(huán)利用并自動補液。
5、具有MES系統(tǒng)的信息交互通訊能力。
6、化學藥液具備InLine加熱冷卻恒溫功能。
7、提供標準的制程解決方案。
8、腐蝕精度:平整度增量TTV≤1.5μm
9、加工能力:晶片直徑4英寸至12英寸,每次數量75片/6英寸,50片/8英寸/12英寸。
10、清洗機通過硬件、軟件配置來較大限度的保護硅片,在異常狀況下設備出現Down機。
11、專利號:202311724028,2020208029174,202020802916X,2020208029051,2020208029051。


單片清洗機

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1、用于硅、碳化硅、氮化鎵等半導體材料的單片腐蝕、清洗、刷洗工藝。
2、機臺可實現多尺寸兼容(4&6寸;6&8寸;12寸)。
3、工藝腔體經過優(yōu)化設計,高性能FFU,配合可調節(jié)高度的CUP,形成一個穩(wěn)定強度的downflow,嚴格控制wafer 表面工藝區(qū)域的動態(tài)環(huán)境。
4、可以實現藥液(酸/堿/有機)的排廢分離,無藥液的交叉污染。
5、可適用襯底及外延清洗、PR strip、Oxide removal等工藝。
6、支持 GEM/SECS協(xié)議,支持MES 系統(tǒng)聯(lián)機。


全自動磨片后清洗機

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1、機臺采用進口板材,可長期工作在酸腐蝕環(huán)境,堅固耐用,雙層防漏。
2、采用KOH、混酸、SC1對芯片表面有機和無機物的有效處理工藝設備,可清洗6"、8"硅片。
3、可設計手動、全自動運行,全自動運行方式采用多只機械手作業(yè),更有效提高效率降低成本。
4、清洗能力:6~8英寸圓片,25片2籃/批。
5、各工藝槽模組化設計,腐蝕槽、純水沖洗槽放置在一個統(tǒng)一的承漏底盤中,腐蝕槽設計底部排風,降低排風量。
6、控制部分采用進口品牌PLC和HMI,可帶MES系統(tǒng)。
7、設備設計標準按半導體行業(yè)標準執(zhí)行,ISO9001質量管理體系進行規(guī)范和保證。



生產環(huán)境

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聯(lián)系方式


無錫工廠:江蘇省無錫市錫山區(qū)芙蓉中三路90號青云三座1樓
生產基地:山東省高唐縣超越路創(chuàng)業(yè)示范園C棟
咨詢電話:13671788984 / 13869598805 / 18663593909
郵      箱:lsee@zglsee.com
公司網址:m.cubeled.cn

聯(lián)系我們

無錫電話:0510-85853898

山東電話:0635-3999580

手 機:13671788984

郵 箱:lsee@zglsee.com

無錫基地:江蘇省無錫市錫山科創(chuàng)園芙蓉中三路99號青云三座

山東基地:山東高唐經濟開發(fā)區(qū)超越路創(chuàng)業(yè)示范園C棟