1、 晶圓槽式浸泡式腐蝕清洗,特制轉(zhuǎn)籠晶圓自動旋轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)。
2、 工藝結(jié)果具備高度的均勻一致性,確保腐蝕效果。
3、 工藝過程中完全自動化控制,自主研發(fā)控制系統(tǒng),友好的人機(jī)交互界面。
4、 氮?dú)夤呐莨δ埽\(yùn)行中氮?dú)夤苈房稍谒岵蹆?nèi)平行均勻移動,鼓泡速率可調(diào)節(jié)。
5、 化學(xué)藥液多級精細(xì)過濾,循環(huán)利用并自動補(bǔ)液功能。
6、 具有MES系統(tǒng)的信息交互通訊能力。
7、 化學(xué)藥液具備InLine加熱冷卻恒溫功能。
8、 配置完善的晶圓倒片專用裝置。
9、 提供標(biāo)準(zhǔn)的制程解決方案。
10、清洗機(jī)通過硬件、軟件配置來較大限度的保護(hù)硅片,在異常狀況下設(shè)備出現(xiàn)Down機(jī),立刻調(diào)動機(jī)械手將硅片從化學(xué)藥液槽中取出,放至QDR水槽中沖洗,能夠避免化學(xué)藥液對硅片的過度腐蝕。在極端條件下,機(jī)械手出現(xiàn)Down機(jī),設(shè)備立刻將化學(xué)藥液槽中的化學(xué)藥液排掉,然后注入U(xiǎn)PW,從而也能減小化學(xué)藥液對硅片的過度腐蝕。
11、加工能力: 晶片直徑4英寸至12英寸,每次數(shù)量75片/6英寸,50片/8英寸/12英寸
腐蝕精度: 平整度增量δTTV≤1.5μm。
使用領(lǐng)域: 晶圓減薄,表面腐蝕。
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